窒化物をマトリックスとしたナノグラニュラー薄膜の磁気光学効果
掲載日 2019年8月26日
発表者 池田賢司小林伸聖荒井賢一
雑誌名等 電気学会マグネティックス研究会資料、MAG-19-089、pp.63-68
概要 高屈折率を有するナノグラニュラー薄膜の作製を目的として、半導体プロセスとの親和性が高く、高屈折率材料であるSiNをマトリックスとしたナノグラニュラー薄膜を作製し、その磁気光学特性を解析した結果、大きいファラデー回転角と共に高い屈折率が得られた。