公益財団法人電磁材料研究所では、電磁に関連する機能材料及びデバイスの研究開発を行っております。

　デバイス開発施設は、本法人において発明された薄膜機能材料を用いた薄膜素子およびデバイスを試作、評価するための施設であり、当施設には大小3つのクリーンルームが設置されています。写真は、最も広いクラス1000のクリーンルームの内部で、薄膜を積層して3次元素子を試作するための主要設備（10台）が設置されています。その他に、素子の性能を精密測定するクリーンルームおよびウエット用クリーンルームがあります。

　素形材開発施設は、本法人で発明・開発したバルク機能性材料の高度化と用途開発を目的としております。当施設は、金属バルク材料を製造するための溶解・鍛造・圧延・線引き・各種熱処理炉などを所有し、材料性能の高度化や製造条件の検討を行ない、実用化を目指した研究を実施しております。