Tunnel-Type Magneto-Dielectric Effect and Its Annealing Study in CoSiO2 Granular Films
| 掲載日 | 2018年5月30日 |
| 発表者 | Yang Cao, , , Hiroshi Masumoto |
| 雑誌名等 | Materials Transactions, Vol. 59, No. 4(2018)pp. 585 to 589 |
| 概要 | 我々が見出したナノグラニュラー膜のトンネル型磁気－誘電体(TMD)効果は、グラニュールペア間のスピン依存トンネル伝導によって生じ、室温で大きな誘電率変化を有することが特徴である。本報告では、金属と酸化物から成るCo-SiO2ナノグラニュラー膜のTMD特性とそのアニール効果について検討した。その結果、Co0.24(SiO2)0.76膜は108μΩ・mの高い電気抵抗率および1％のTDM比を示す。アニール処理においては、573Kまでの温度においてTMD効果が維持されることが分かった。さらに高い温度では、CoとSiO2界面との間の相互拡散が生じ、グラニュールの金属Coが酸化により特性の劣化が生じた。 |