デバイス開発施設

施設の概要

デバイス開発施設は、本研究開発事業部の3 研究開発部門が実施する研究開発において、薄膜素子及びデバイスの試作、並びにそれらの性能評価に関して全面的な支援を行うと共に、薄膜素子及びデバイスの製造技術および評価技術に関する独自の開発を行うことを目的としております。
また、試作開発研究を実施し、外部機関の求めに応じて本法人の研究成果である薄膜素子およびデバイスの試作品の提供を行っております。

デバイス開発施設の主要設備および維持管理体制

本施設では、クリーンルーム棟1階にISO規格Class6(米国連邦規格Class1,000)の成膜室(73m2)とISO規格Class5(米国連邦規格Class100)のイエロールーム(68m2)を設置し、最新のRF マグネトロンスパッタ装置、イオンミリング装置、両面マスクアライナーや化学薬品の処理を行うためのドラフトチャンバー等の約10台の微細加工装置および各種検査機を保有しております。
また、研究開発業務を円滑に実施するために、常に3名の専門職員がその維持・管理を行っております。

Gallery

お問い合わせ

ご不明な点やご要望は、FAQ(~について)またはお問い合わせのページをご覧ください。

クリーンルームの規格

ISO規格(フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』)