デバイス開発施設は、デバイス開発グループに付属し、本法人において発明された薄膜機能材料を用いた電子デバイスの有効性を実証するため、実際に機能素子を試作するための施設で、大小３つのクリンルームで構成されています。写真は、最も広いクラス1000のクリンルームであり、薄膜を積層して３次元素子を試作するための主要設備10台が設置されています。その他に、素子の性能を精密測定するクリンルームと化学処理用クリンルームがあります。

本法人において発明・開発された高機能性材料および独自製造法により作製された機能性材料などの実用化、新たな用途開発および性能向上に向けた試作開 発研究を実施しています。

現有設備は、高周波誘導溶解炉(4基)、ア−ク溶解炉(2基)、エア−ハンマ−（2基）、冷間伸線機(6基)、熱間・冷間圧延機(6基)、スウェ−ジングハンマ−(3基)、切断機・切削機(2基)、研磨機(2基)、真空・水素雰囲気中熱処理炉(10基)などです。